原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。然而新一层原子膜的化学反应在原子层沉积过程中是直接关联之前一层的，该种方式使每次反应仅仅沉积一层原子。

原子层沉积技术应用

原子层沉积技术因为其高度可控的沉积参数（厚度，成份和结构），沉积均匀性和一致性的优异，使得其广泛地应用于微纳电子和纳米材料等领域，具有相当高的潜力。通过已经发表的相关论文和报告能够推测出，该技术可能应用的主要领域如下：

1、互连线势垒层

2、互连线铜电镀沉积籽晶层

3、DRAM、MRAM介电层

4、嵌入式电容

5、电磁记录磁头

6、各类薄膜（低于100纳米）

7、金属栅电极以及晶体管栅极介电层

8、微电子机械系统

9、光电子材料和器件

10、集成电路互连线扩散阻挡层

11、平板显示器（有机光发射二极管材料，OLED）

原子层沉积应用

纳米技术领域

纳米线的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米颗粒的涂层，存储硅量子点涂层，中空纳米碗，纳米结构，ZnSe涂层，纳米晶体，微机电系统的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，高高宽比纳米图形，纳米孔道尺寸的控制，光电电池性能的提高，隧道势垒层以及中空纳米管。

原子层沉积技术还包括上述领域所不能代表的可能应用领域。越来越多的应用将会随着科技的发展在将来被发现。各类不同的材料按照该技术的反应原理特征均能够沉积出来。金属、氧化物、碳（氮、硫、硅）化物、各类半导体材料和超导材料等为已经沉积的材料。