紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提出来的。紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机是一款小型紫外臭氧清洗设备,可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。

对比

尽管有多种表面清洗和制程方法被提供进行选择，然而，相比于其它方法而言，紫外臭氧清洗有着明显的优势。传统的清洗方法包括干法清洗和湿法清洗两种方式。

相较于湿法清洗，不会有有害的废水产生。湿式清洗需要对化学废水进行处理。紫外臭氧处理相比于湿式清洗为一个完全干燥的过程。并且臭氧清除装置会被配备于紫外臭氧清洗机内，废气臭氧会在系统内进行分解，不会导致清洁室内会有过高的臭氧含量从而使得危害产生。紫外臭氧清洗机也能够被配置成连续加载的清洗线，并且能够耦合DI水冲洗系统，将表面的颗粒彻底清除掉。

相较于干法清洗，基板充电有着较小的损伤。在等离子体处理中，一个严重的挑战为离子轰击引起的充电损伤。其会造成器件的电气特性退化。表面处理为紫外臭氧处理所提供，氧自由基被使用，没有等离子体放电，其对于等离子体蚀刻的替代十分经济有效，由于任何特殊的真空室、气体或特殊设备其均不需要，因此其对于等离子体蚀刻的替代十分经济有效。